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歡迎來到ASML 台灣粉絲團！我們是全球晶片微影設備的市場領導者，在此將與您分享未來科技的無限可能！
總部位於荷蘭的ASML (台灣艾司摩爾) 是全球最大晶片微影設備市場的翹楚，為半導體製造商提供微影設備及相關服務。全球十大半導體廠皆為ASML的客戶，30多年來，ASML不斷挑戰技術極限，讓終端消費者能用合理的價格買到功能更強大、更小巧、更節能的電子設備，進而提升人類的生活品質。
自2003年在台灣設立第一間辦公室以來，台灣艾司摩爾如今共有四個服務據點，在台員工約4,500人，來自27個不同國籍的同事，於新竹、台中、台南設有辦公室，並在林口設有卓越創新中心 (ASML Center of Excellence, ACE)，負責機台翻修與量測設備生產。ASML於台南則設有電子束檢測設備製造廠，並於2020年設立EUV全球技術培訓中心，內部配備實機模組 (Live Module)，提供技術理論課程和無塵室實機操作課程等多元化培訓內容。
作為領導企業，ASML致力於為員工打造最佳工作環境，讓全球優秀的工程師樂於在此工作、交流、學習和分享。ASML秉持Challenge、Collaborate、Care的企業價值觀，尊重員工、促進員工與同儕及主管間的率直討論、相互學習，更讓我們能夠持續維持技術領先優勢。我們不僅致力於技術的開發，也為企業的永續發展和企業社會責任努力，包括廢棄物控制和資源最大化，並支持企業公民計劃，包含公司營運所在社區的科普教育，從而奠定我們的企業經營基礎。
【ASML 技術簡單說｜Greet 小教室：最後一步！EUV 光怎麼印到晶圓上？🔍】
前兩篇 Greet 小教室，我們先看了 EUV 光怎麼產生，再了解晶片電路圖案如何透過光罩（Reticle）被帶進 EUV 光裡。
接下來微影製程的最後一關，就是怎麼把電路圖案又快又準地印到晶圓上？ 👀
這次要認識的，就是晶圓平台（Ｗafer Stage）！
在微影製程中，晶圓平台負責承載晶圓，並快速移動到正確位置，讓帶有電路圖案的 EUV 光可以一區一區完成曝光。
但它可不是單純「把晶圓移來移去」這麼簡單。⚡
在 High NA EUV 系統中，承載晶圓的平台（Ｗafer Table）會透過磁浮方式高速移動，同時還要維持極高的定位精準度，才能讓電路圖案準確印在晶圓上的指定位置。
而且為了提升效率，系統中還有兩個承載晶圓的平台，讓晶圓準備與曝光流程可以更順暢地銜接，進一步提升整體生產效率。🚀
從產生 EUV 光、讓光帶上晶片圖案，到最後電路被精準曝光在晶圓上，High NA EUV 裡的每一個模組，都在挑戰速度與精準度的極限。✨
▶️ 點開影片，跟著 Greet 一起看看晶圓平台如何完成微影的最後一步！
【ASML 技術簡單說｜Greet 小教室：晶片圖案怎麼進到 EUV 光裡？🔍】
上一篇 Greet 小教室帶大家認識 EUV 光是怎麼產生的：透過雷射每秒精準擊中約 50,000 顆錫滴，產生波長僅 13.5 奈米的 EUV 光。✨
那麼，有了 EUV 光之後，要怎麼讓這道光「印出」晶片的電路圖案呢？ 👀
答案就在 Reticle Stage（光罩平台）！
光罩（Reticle）上承載著要印製到晶圓上的晶片電路圖案。當 EUV 光照到光罩後，光會被反射並帶上電路圖案，再經過一系列反射鏡，最後投射到晶圓上進行曝光。
而且曝光時，光罩可不是靜止不動！⚡ Reticle Stage 會帶著光罩高速來回移動，在 High NA EUV 系統中，加速度最高甚至可達 32G，速度大約是 F1 賽車的 30 倍！
更厲害的是，Reticle Stage 還必須和下方的晶圓平台（Wafer Stage）精準同步移動，才能讓電路圖案準確曝光在晶圓上的指定位置。🎯
從「產生 EUV 光」到「讓 EUV 光帶上晶片圖案」，每一步背後都是速度與精準度的極限挑戰！
▶️ 點開影片，跟著 Greet 一起看看 High NA EUV 裡的 Reticle Stage 是怎麼運作的吧！
14/09/2026
【ASML 技術簡單說｜科技革新的動能：ASML 在晶片製程的哪裡？👀】
你知道晶圓廠裡每天都在忙些什麼嗎？一顆小小的晶片，在製造階段就要經歷一道又一道精密製程！👀
今天就讓艾小編化身「製程導遊」，帶大家快速認識晶片誕生記！🚀
晶片製造包含許多複雜製程，其中幾個重要步驟包含沉積、光阻塗佈、微影、蝕刻、電離與封裝。而 ASML 的核心技術，就在其中的 「微影」！
微影的任務，是將極為精細的電路圖案轉印到晶圓上，也是支援晶片持續微縮的重要關鍵。這個過程又是怎麼做到的呢？
🔹 投影｜讓光帶上電路圖案
透過 DUV 深紫外光或 EUV 極紫外光，將光罩上的電路圖案投影至晶圓。
🔹 聚焦｜把電路圖案精準印上晶圓
透過高度精密的光學系統，將電路圖案聚焦到晶圓表面的光阻層上，形成細微的電路結構。
🔹 優化｜曝光之前，先算得更準
從「算得準」到「印得準」，每一步都在挑戰奈米世界的精準極限，也讓晶片能持續朝更小、更先進的方向發展。✨
這六個晶片製程，你之前聽過哪幾個呢？歡迎留言跟艾小編分享！💬
11/09/2026
【ASMLer 說｜Challenge、Collaborate、Care，就在 ASMLer 的工作日常裡 🙌】
大家還記得 ASML 客戶支援（Customer Support, CS）主管 Wayne，還有曾在林口智慧製造中心擔任裝機工程師（System Installation Engineer, SIE）的 Candice 在 Dcard《這麼職揭》節目上分享的故事嗎？ 👀
從第一次出差就遇上意料之外的裝機挑戰，到凌晨地震後團隊緊急集結，從他們的故事中，可以看見 Challenge、Collaborate、Care 組成的 3C 文化，存在於 ASMLer 每一次面對問題、一起找出解法的日常裡。💙
🔧 第一次出差，就遇到意外挑戰
Candice 第一次出差到客戶工廠裝機，抵達後才發現，現場環境和事前收到的資訊完全不同！不只旁邊已經有其他裝好的機台，連可以裝機的方向都和原先規劃不一樣。面對突如其來的挑戰，一起出差的學長卻非常冷靜規劃應變的方法。最後 Candice、學長和客戶團隊一起重新確認現場狀況、清出需要的空間，最後順利完成裝機。🙌
🌏 凌晨地震，團隊第一時間集結！
Wayne 也分享，曾經有一次台南凌晨發生地震，CS 團隊成員都知道地震可能導致客戶工廠中的機台因保護機制而 shut down，需要工程師緊急到場支援、協助機台恢復運作。Wayne 拿起手機一上線，就發現工作夥伴們也紛紛出現，迅速組成緊急應變小組、確認狀況並分配任務。他和同事也馬上出發前往科學園區支援。
沒想到打開導航一看，半夜前往科學園區的路段已經變成紅色了！ 🚗 原來許多工程師都在第一時間趕往現場，希望盡快讓受到影響的機台恢復運作。
面對意料之外的挑戰，有人快速集結、有人分工協作、有人立即趕往現場支援。 這份一起解決問題、彼此支援的默契，就是 Challenge、Collaborate、Care 在 ASMLer 工作日常中的模樣。✨
想加入這樣的團隊，和一群願意一起迎接挑戰的 ASMLer 工作嗎？
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10/09/2026
【ASML 技術簡單說｜科技革新的動能：先進製程晶片可以幫忙開車？！🚘 】
隨著半導體技術的深度整合，日常生活中除了常見的手機、平板等 3C 產品會用到晶片之外，目前汽車對於晶片的依賴，已經超乎大家的想像。今天就讓艾小編帶大家打開引擎蓋一探究竟，看看不同奈米製程的晶片，如何在車裡各司其職，聯手打造未來移動生活！
為了實現自動化、安全且順暢的移動體驗，汽車中運用不同奈米製程的晶片：
🧠 車輛的大腦：個位數奈米先進製程（如 5 nm）
採用先進製程的車用晶片提供強大的算力，負責汽車內的智慧應用，如同一個執行複雜的汽車大腦，實現像是自動駕駛輔助、智慧座艙等功能。
⚡ 車輛的神經：低雙位數奈米製程（如 16 nm）
負責即時傳輸指令與訊號，如車門控制、防撞感測、導航的訊號傳輸，保障行車安全。
🦶 車輛的四肢：高雙位數奈米成熟製程（>40 nm）
車內的控制系統則由成熟製程晶片組成，就像車子的四肢，接收訊號後立刻執行煞車控制、升降車窗或撥雨刷等操作。
不論是先進製程或成熟製程的車用晶片，穩定製造的關鍵之一，就是 ASML 的微影技術！ASML 的微影技術透過精密的光學原理，持續支援晶片製程，協助全球合作夥伴實現下一代智慧交通的願景。
點進圖片看更多車用晶片的故事吧！
09/09/2026
【ASML 情報員快說｜全球晶片大廠陸續導入 High NA EUV，產業攜手布局次世代製程🟡】
隨著 AI 應用快速發展，晶片架構日益複雜，也帶動先進製程對 High NA EUV 的需求。目前，全球領先的邏輯與記憶體晶片製造商正陸續導入 High NA EUV；如何進一步提升這項技術的生產力與應用價值，也成為產業布局下一階段的重要課題。
為此，ASML 正與台積電攜手推動半導體產業採用更大尺寸的 12 吋光罩（photomask），為未來的先進晶片製造做好準備。這項倡議也獲得 Intel、三星電子等 High NA EUV 導入企業的支持。
為什麼要採用更大的光罩？關鍵改變一次看📌
🔹 生產力提升｜隨著先進晶片尺寸增長，12 吋光罩可以簡化曝光流程，讓晶圓廠更有效率地生產晶片
🔹 製造成本降低｜12 吋光罩預期可提升約 40% 的 High NA 生產力，進一步降低先進製程成本
【ASML 情報員快說｜一起回顧 SEMICON Taiwan 2026！✨】
SEMICON Taiwan 2026 精彩落幕！
從 High NA EUV 的最新進展、到Dream Fab 的互動體驗，一起回顧 ASML 今年展出的精彩亮點！🚀
🔹 High NA EUV 走入量產應用
High NA EUV 產品管理資深副總裁 Greet Storms 在 IC Forum 分享，High NA EUV 已從研發走入量產應用，全球累積曝光超過 135 萬片晶圓，EXE:5200B 達到 135 WPH 量產規格，為下一代晶片微縮做好準備。
🔹 攜手生態系推動創新
ASML 副總裁暨台灣總經理 Grace Wang 參與 Dream Fab 開幕，ASML與產業夥伴攜手打造沉浸式晶片製造體驗空間。從設備、製造到人才培育，每一次技術突破的背後，都少不了生態系夥伴共同投入與合作。🤝
🔹 縮小版 EUV 機台樂高登場
艾小編也在 Dream Fab 帶大家直擊 ASML 展出 High NA EUV 概念影片，同時將 EXE:5000 與 NXE:3400 機台縮小成樂高，讓更多人有機會近距離認識龐大、複雜的 EUV 微影系統，從不同角度認識支援先進晶片製造的重要技術。👀
今年的 SEMICON Taiwan 2026，哪一項技術創新最讓你印象深刻呢？💡
歡迎留言跟艾小編分享！
🎁 除了帶走滿滿的產業新知，也別忘了點擊留言區連結填寫人才表單，就有機會把 EUV 樂高帶回家！✨
【ASML 情報員快說｜艾小編帶你直擊 Dream Fab 的縮小版 EUV 👀】
跟著艾小編一起直擊 SEMICON Taiwan 2026 現場！
一走進南港展覽館一館一樓，就能看到集結半導體產業夥伴的 Dream Fab，帶大家認識晶片製造的旅程。
而這次 ASML 也把支援先進製程的重要技術—— High NA EUV 帶到現場啦！✨
ASML 的 EUV 微影技術從 NXE 系統的 0.33 NA，進一步發展到 EXE 系統的 0.55 NA。更高的數值孔徑（NA）帶來更高的解析度，能呈現更精細的電路圖案，持續支援晶片微縮與先進製程量產。🚀
現實中的 EUV 機台非常巨大，運送時需要拆分成許多模組，由多台貨運車運送。這次 ASML 把 EXE:5000 與 NXE:3400 機台縮小成樂高模型，讓大家可以近距離看看 EUV 系統的細節。🔍
🎁 想把縮小版 EUV 帶回家嗎？
歡迎來 Dream Fab 現場近距離看看 EUV 樂高，也別忘了點擊留言區連結填寫人才表單，就有機會把 EUV 樂高帶回家！
【ASMLer 說｜Greet 兩年後回到 SEMICON Taiwan，High NA EUV 又往前跨了一大步！🚀】
兩年前，ASML High NA EUV 產品管理資深副總裁 Greet Storms 來到 SEMICON Taiwan，和大家介紹 High NA EUV；兩年後再次回到台灣，她也帶來了一個重要的進展——High NA EUV 正逐步邁向量產應用！ 🙌
對 Greet 來說，這不只是 High NA EUV 發展的重要里程碑，也是整個半導體生態系一起合作的成果。
台灣匯聚了邏輯、DRAM等晶片製造商到供應鏈夥伴，是全球半導體產業的重要一環。透過 SEMICON Taiwan，ASML 也能與客戶及合作夥伴交流最新技術、分享彼此的想法，一起探索如何持續突破技術極限。💡
這次 Greet 也特別從 SEMICON Taiwan 現場跟大家打招呼，一起來聽聽她想分享什麼吧！👋
🎁 而且這次所有人跟 ASMLer 都有抽獎機會喔！
歡迎到留言區看活動辦法，就有機會把 ASML EUV 樂高模型帶回家！✨
01/09/2026
【ASML 情報員快說｜Dream Fab 正式開幕！一起走進晶片製造的世界 ✨】
SEMICON Taiwan 2026 的 Dream Fab 正式開幕啦！
ASML 把非常大台的 EUV 極紫外光機台，縮小成樂高模型帶來現場，讓大家可以近距離觀察機台的細節。👀
Dream Fab 集結半導體產業夥伴，透過展示與互動體驗，帶大家認識晶片製造的旅程，進一步了解包括微影技術等關鍵製程，以及 EUV 極紫外光微影如何支援先進晶片持續微縮與發展。
ASML 副總裁暨台灣總經理 Grace Wang 也出席今天的開幕記者會，與產業夥伴一同見證 Dream Fab 正式啟動。🙌
Dream Fab 也會播放 High NA EUV 影片，帶大家進一步認識微影技術，以及它在晶片製造中扮演的重要角色。
📍 而且現在只要到留言區填寫人才表單，就有機會把 EUV 樂高帶回家！
歡迎大家來 Dream Fab 現場看看，也別忘了點擊留言區連結參加抽獎喔～💙
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